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半導(dǎo)體工藝流程應(yīng)用案例

許多半導(dǎo)體及電子產(chǎn)品加工和操作過程都需要嚴(yán)格控制的干燥環(huán)境。

許多半導(dǎo)體及電子產(chǎn)品加工和操作過程都需要嚴(yán)格控制的干燥環(huán)境??諝鉂穸冗^高會(huì)導(dǎo)致電路接點(diǎn)腐蝕、芯片電路表面凝結(jié)水分和光刻膠粘連不當(dāng),導(dǎo)致半導(dǎo)體封裝過程中出現(xiàn)操作故障。因此,我們可以使用轉(zhuǎn)輪除濕技術(shù),以便維持干燥工作間和無塵室內(nèi)的適當(dāng)工作環(huán)境。

濕度控制可防止:

  • 電路接點(diǎn)腐蝕
  • 芯片電路表面凝結(jié)水分
  • 設(shè)備老化
  • 光刻膠粘連不當(dāng)

因此,在以下場合必須進(jìn)行濕度控制:

封裝區(qū)

在半導(dǎo)體和集成電路的生產(chǎn)過程中,濕度過大會(huì)對焊接工藝造成不利影響,使不良品增多??涛g過程中,人們會(huì)使用一種叫做光刻膠的光敏高分子混合液覆蓋電路引線。具有吸濕性的光刻膠會(huì)吸收水分,致使微電路引線被錯(cuò)誤切斷或連通,導(dǎo)致電路故障。

晶圓制造區(qū)

晶圓加工過程中,旋涂機(jī)會(huì)將顯影劑噴射在晶圓表面,使晶圓表面的溶劑迅速蒸發(fā),以達(dá)到為晶圓表面降溫的效果。同時(shí),這也會(huì)導(dǎo)致空氣中的水蒸汽在晶圓表面凝結(jié)成水滴。晶圓表面濕度過大會(huì)導(dǎo)致顯影劑的化學(xué)特性發(fā)生改變。光刻膠同樣也會(huì)吸收水分,導(dǎo)致高分子聚合物成分膨脹。通過控制相對濕度,便可保證晶圓表面溫度不會(huì)低于周圍空氣露點(diǎn)溫度,從而防止故障和損壞。

光刻間

光刻間過于潮濕會(huì)導(dǎo)致二氧化硅吸收水分、光刻膠粘連不當(dāng),造成晶圓在應(yīng)力作用下產(chǎn)生斷裂和表面缺陷。

加快真空泵老化

如果濕度水平過高,低溫泵等真空設(shè)備會(huì)因空氣中存在大量水蒸汽而出現(xiàn)轉(zhuǎn)速降低的情況。相對濕度降低后,批處理速度就可以得到提升,從而促進(jìn)生產(chǎn)效率的提升。

保護(hù)外延設(shè)備

水蒸汽或水分凝結(jié)在低溫的外延設(shè)備表面,會(huì)使設(shè)備部件受到腐蝕,導(dǎo)致運(yùn)行故障并降低處理速度。

除了可以實(shí)現(xiàn)理想的空氣條件,蒙特還可提供用于消除廢氣中揮發(fā)性有機(jī)化合物(VOC)的 Zeol VOC 減排系列產(chǎn)品。半導(dǎo)體加工過程中排出的廢氣中含有 VOC。它對人體健康和環(huán)境有害,因此有關(guān)部門要求減少這種物質(zhì)的排放量。沸石轉(zhuǎn)輪濃縮設(shè)備可首先將 VOC 進(jìn)行高效濃縮,從而大大降低減排成本。

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對于每分每秒都在追求生產(chǎn)進(jìn)度的半導(dǎo)體工業(yè)來說,轉(zhuǎn)輪濃縮系統(tǒng)的更大優(yōu)勢在于其具有高度可靠性,可在壓力波動(dòng)更低的情況下穩(wěn)定排放廢氣,大大節(jié)省運(yùn)營成本。蒙特系統(tǒng)可將包含低濃度 VOC 的大量廢氣壓縮成低濃度的液體,再利用氧化劑進(jìn)行經(jīng)濟(jì)高效的燃燒去除。系統(tǒng)壓降較小,有助于排氣扇節(jié)約能源成本。

蒙特沸石轉(zhuǎn)輪濃縮設(shè)備系統(tǒng)在 VOC 減排方面處于技術(shù)**地位。目前安裝該系統(tǒng)的包括一些世界知名企業(yè),現(xiàn)已有200多套系統(tǒng)在為我們的客戶提供服務(wù)。

蒙特是研究 VOC 疏水沸石吸收技術(shù)的先驅(qū)者。蒙特 VOC 減排系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn) 95% 以上的 VOC 燃燒去除率(DRE),而其燃料費(fèi)用與僅使用氧化劑相比可降低 30-50%。

如需了解更多相關(guān)內(nèi)容,請聯(lián)系您身邊的蒙特銷售辦事處,或填寫右側(cè)聯(lián)系表發(fā)送您的問詢。

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蒙特是研發(fā)和制造節(jié)能加濕系統(tǒng)的全球?qū)I(yè)服務(wù)商。對紙漿、造紙和印刷行業(yè)而言,維持適當(dāng)?shù)臐穸人椒浅jP(guān)鍵;我們的節(jié)能創(chuàng)新產(chǎn)品可為這些行業(yè)營造理想的氣候條件。

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